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时间:2026-07-17 13:00
举办地点:闵行校区行政楼314
内容:
电气电子工程的前途和纳米电子工程的介绍
主办单位:
科技处、先进技术学院
主讲人:
金成振,韩国高丽大学博士,现就职于韩国庆南大学,正教授。曾任美国普林斯顿大学客座教授、韩国电子工程师学会分行经理、韩国庆南大学工程学院院长。主要研究领域:高温快速热氧化形成的氧化钽层的氢响应特性;退火条件对SiC器件接触电阻的影响;薄膜的传感器在高温下钯电极图案对氢响应特性的影响等。
时间:2026-07-17 13:00
举办地点:闵行校区行政楼314
内容:
电气电子工程的前途和纳米电子工程的介绍
主办单位:
科技处、先进技术学院
主讲人:
金成振,韩国高丽大学博士,现就职于韩国庆南大学,正教授。曾任美国普林斯顿大学客座教授、韩国电子工程师学会分行经理、韩国庆南大学工程学院院长。主要研究领域:高温快速热氧化形成的氧化钽层的氢响应特性;退火条件对SiC器件接触电阻的影响;薄膜的传感器在高温下钯电极图案对氢响应特性的影响等。